发明名称 |
辐射系统和光刻设备 |
摘要 |
一种辐射系统,配置成产生辐射束。所述辐射系统包括:辐射源(50),配置成产生发射辐射和碎片的等离子体;辐射收集器(70),配置成引导所收集的辐射至辐射束发射孔(60)。磁场产生装置(200)配置成产生具有磁场强度梯度的磁场,以将等离子体引导离开辐射收集器(70)。 |
申请公布号 |
CN104714374A |
申请公布日期 |
2015.06.17 |
申请号 |
CN201510142259.4 |
申请日期 |
2009.04.30 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
V·Y·班尼恩;E·R·鲁普斯特拉;V·V·伊万诺夫;V·M·克里夫特逊 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;H05G2/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
胡良均 |
主权项 |
一种辐射系统,配置成产生辐射束,所述辐射系统包括:辐射源,配置成产生发射辐射和碎片的等离子体;辐射收集器,用以引导所收集的辐射至辐射束发射孔;和磁场产生装置,配置成产生具有磁场强度梯度的磁场,以将等离子体引导离开所述辐射收集器;和气体源,所述气体源配置成供给气体至包含等离子体的一容积体,其中,所述气体源配置成供给气体使得在所述容积体内的气体具有大于10Pa的压力,其中,所述气体源和磁场产生装置用作配置成引导所述碎片的中性粒子离开所述收集器的磁性泵。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |