发明名称 LED结构及其形成方法
摘要 本发明公开了一种LED结构及其形成方法。其中该LED结构包括:衬底;第一掺杂类型氮化物半导体层;第一电极;多量子阱,多量子阱包括周期交替排列的多个阱层和多个垒层,其中,阱层中具有p型掺杂区,其中,当第一掺杂类型为n型时,p型掺杂区位于阱层的前端,或者,当第一掺杂类型为p型时,p型掺杂区位于阱层的后端;第二掺杂类型氮化物半导体层;以及第二电极。本发明的LED结构通过在阱区局部进行p型掺杂,使阱区内部的空穴浓度得到明显提升,同时增加了电子与空穴的波函数分布重合概率,最终使发光效率得到提升。
申请公布号 CN104716239A 申请公布日期 2015.06.17
申请号 CN201310676275.2 申请日期 2013.12.11
申请人 比亚迪股份有限公司 发明人 张旺
分类号 H01L33/06(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I 主分类号 H01L33/06(2010.01)I
代理机构 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人 张大威
主权项 一种LED结构,其特征在于,包括:衬底;第一掺杂类型氮化物半导体层,所述第一掺杂类型氮化物半导体层位于所述衬底上;第一电极,所述第一电极位于所述第一掺杂类型氮化物半导体层的第一区域上;多量子阱,所述多量子阱位于所述第一掺杂类型氮化物半导体层的第二区域上,所述多量子阱包括周期交替排列的多个阱层和多个垒层,其中,所述阱层中具有p型掺杂区,其中,当所述第一掺杂类型为n型时,所述p型掺杂区位于所述阱层的前端,或者,当所述第一掺杂类型为p型时,所述p型掺杂区位于所述阱层的后端;第二掺杂类型氮化物半导体层,所述第二掺杂类型氮化物半导体层位于所述多量子阱上;第二电极,所述第二电极位于所述第二掺杂类型氮化物半导体层上。
地址 518118 广东省深圳市坪山新区比亚迪路3009号
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