发明名称 PHOTOCURABLE COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING FILM
摘要 <p>이형력을 저감시키는 광경화성 조성물을 제공한다. 상기 광경화성 조성물은, 요철 패턴이 형성된 표면을 갖는 몰드와 접촉시키면서 광을 사용하여 경화시켜 요철 패턴을 갖는 막을 제조하기 위한 광경화성 조성물이며, 중합성 화합물, 광중합 개시제, 및 광자극 응답 부위를 갖는 감광성 가스 발생제를 포함한다. 상기 감광성 가스 발생제는 하나 이상의 알킬렌 옥시드 쇄를 함유하는 반복 구조를 갖고, 광 조사에 의해 상기 광자극 응답 부위로부터 가스를 발생시킨다.</p>
申请公布号 KR20150067246(A) 申请公布日期 2015.06.17
申请号 KR20157011243 申请日期 2013.09.20
申请人 CANON KABUSHIKI KAISHA 发明人 ITO TOSHIKI;MIHARA CHIEKO;MATSUFUJI NAOKO;KITAGAWA KENJI
分类号 C08K5/435;C08K5/23;C08L33/06;G03F7/00;G03F7/022;G03F7/027;H01L21/027;H01L21/311 主分类号 C08K5/435
代理机构 代理人
主权项
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