溅射靶及其制造方法

摘要

本发明涉及溅射靶及其制造方法。本发明提供一种溅射靶，其为将陶瓷制烧结体与支撑体接合而得到的溅射靶，其特征在于，陶瓷制烧结体的支撑体侧的表面粗糙度在规定范围内，在该表面上具有包含铜或铜合金的打底层，所述溅射靶具有将支撑体与打底层通过铟或铟合金层接合而形成的层叠结构。烧结体靶以适当的接合强度接合(粘接)在支撑体上，可以提高接合强度，抑制向溅射装置的传送或者安装时的靶的操作中的剥离等，或者即使在受到溅射时的热影响的情况下，也能够有效地抑制靶产生应变、靶的变形、龟裂、从支撑体的剥离。

主权项

一种溅射靶，其为陶瓷制烧结体与支撑体接合而得到的溅射靶，其特征在于，陶瓷制烧结体的支撑体侧的表面粗糙度Ra为0.5μm以上且4.0μm以下，在该表面上具有包含铜或者含有80原子％以上铜的铜合金的打底层，所述溅射靶具有将支撑体与打底层通过铟或者含有80原子％以上铟的铟合金层接合而形成的层叠结构。