发明名称 |
硬罩幕组成物及使用硬罩幕组成物的图案形成方法 |
摘要 |
揭示硬罩幕组成物以及使用硬罩幕组成物的图案形成方法。硬罩幕组成物包括由下列化学式1表示的高分子、由下列化学式2表示的单体以及溶剂,其中所包含的单体的含量等同于或高于高分子的含量。 |
申请公布号 |
CN104718497A |
申请公布日期 |
2015.06.17 |
申请号 |
CN201380053489.2 |
申请日期 |
2013.09.02 |
申请人 |
第一毛织株式会社 |
发明人 |
李哲虎;朴惟廷;尹龙云;李圣宰;赵娟振;金永珉;李忠宪 |
分类号 |
G03F7/004(2006.01)I;G03F1/00(2012.01)I;G03F7/26(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01)I |
代理机构 |
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 |
代理人 |
杨贝贝;臧建明 |
主权项 |
一种硬罩幕组成物,包括:高分子,由下列化学式1表示;单体,由下列化学式2表示;以及溶剂;其中所包含的所述单体的含量等同于或高于所述高分子的含量:<img file="FDA0000698139300000011.GIF" wi="822" he="1194" />其中,在所述化学式1或化学式2中,R<sub>1</sub>为单键或经取代或未经取代的C1至C10亚烷基,R<sub>2</sub>至R<sub>6</sub>各自独立地为氢、羟基、经取代或未经取代的C1至C30烷基、经取代或未经取代的C3至C30环烷基、经取代或未经取代的C6至C30芳基、经取代或未经取代的C3至C30环烯基、经取代或未经取代的C7至C20芳烷基、经取代或未经取代的C1至C20杂烷基、经取代或未经取代的C2至C30杂环烷基、经取代或未经取代的C2至C30杂芳基、经取代或未经取代的C1至C30烷氧基、经取代或未经取代的C2至C30烯基、经取代或未经取代的C2至C30炔基、经取代或未经取代的C1至C20醛基、经取代或未经取代的C1至C4烷基醚、经取代或未经取代的C7至C20芳基亚烷基醚、经取代或未经取代的C1至C30卤烷基或其组合,AR1以及AR2各自独立地为经取代或未经取代的C6至C20芳基,x+y=1、0≤x≤1且0≤y≤1,以及n为1至200范围内的整数。 |
地址 |
韩国庆尙北道龟尾市龟尾大路58番地730-710 |