发明名称 |
一种应用于石英基材的碳化硼梯度涂层及其制备方法 |
摘要 |
本发明涉及半导体刻蚀机内衬及石英表面防蚀处理技术领域,具体涉及一种应用于石英基材的碳化硼梯度涂层。所述涂层,包括依次喷涂在石英基材表面的第一涂层,由第一百分含量的二氧化硅粉末和第二百分含量的碳化硼粉末混合喷涂而成,第一百分含量和第二百分含量之和为100%;第二涂层,由第三百分含量的二氧化硅粉末和第四百分含量的碳化硼粉末混合喷涂而成,第三百分含量和第四百分含量之和为100%;碳化硼涂层,为纯碳化硼粉末喷涂而成;第三百分含量小于第一百分含量。本发明还涉及一种所述梯度涂层的制备方法。本发明的梯度涂层组分和结构的梯度变化可以降低或消除界面、物性突变和界面应力,提高石英基材和碳化硼涂层界面结合强度。 |
申请公布号 |
CN104711503A |
申请公布日期 |
2015.06.17 |
申请号 |
CN201310693535.7 |
申请日期 |
2013.12.17 |
申请人 |
中国科学院微电子研究所;北京美桥电子设备有限公司 |
发明人 |
王文东;夏洋;李楠 |
分类号 |
C23C4/10(2006.01)I;B22F1/00(2006.01)I |
主分类号 |
C23C4/10(2006.01)I |
代理机构 |
北京华沛德权律师事务所 11302 |
代理人 |
刘杰 |
主权项 |
一种应用于石英基材的碳化硼梯度涂层,其特征在于;包括依次喷涂在石英基材表面的第一涂层、第二涂层和碳化硼涂层;所述第一涂层由第一百分含量的二氧化硅粉末和第二百分含量的碳化硼粉末混合喷涂而成,所述第一百分含量和所述第二百分含量之和为100%;所述第二涂层由第三百分含量的二氧化硅粉末和第四百分含量的碳化硼粉末混合喷涂而成,所述第三百分含量和所述第四百分含量之和为100%;所述碳化硼涂层为纯碳化硼粉末喷涂而成;其中,所述第三百分含量小于所述第一百分含量,所述第四百分含量大于所述第二百分含量。 |
地址 |
100029 北京市朝阳区北土城西路3号 |