发明名称 NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
摘要 <p>[과제] 저점도의 용액으로도 후막화가 가능하고, 노광전에도 택이 없고, 알칼리현상에 의해 고해상도로 패턴형성할 수 있고, 형성되는 도막은 투명성이 높고 포스트베이크후에도 쉬링크가 작은 네가티브형 감광성 수지조성물을 제공한다. [해결수단] 하기 (A)성분, (B)성분, (C)성분, (D)성분 및 (E)용제를 함유하는 감광성 수지조성물, 해당 수지조성물을 이용하여 얻어지는 경화막, 해당 경화막으로 이루어진 액정디스플레이용 층간절연막, 해당 경화막으로 이루어진 광학필터. (A)성분: 적어도 (i) N-알콕시메틸(메트)아크릴아미드와, (ii) 알칼리가용성기를 갖는 모노머를 함유하는 모노머 혼합물을 공중합한 공중합체, (B)성분: 중합성기를 2개 이상 갖는 화합물, (C)성분: 광중합개시제, (D)성분: 하이드록시기를 함유하는 폴리머, (E)용제.</p>
申请公布号 KR20150067236(A) 申请公布日期 2015.06.17
申请号 KR20157011108 申请日期 2013.09.24
申请人 NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. 发明人 UCHIYAMA MEGUMI;HATANAKA TADASHI
分类号 G03F7/033;G02B5/20;G03F7/004;H05B33/22 主分类号 G03F7/033
代理机构 代理人
主权项
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