一种3.46微米窄带滤光片及其制作方法

摘要

本发明公开了一种3.46微米窄带滤光片及其制备方法，以JGS3为基板，以SiO2和Si为镀膜材料，采用电子束蒸发真空镀方式，在真空度＜10-3pa、温度＜250℃的条件下，加以离子辅助沉积，采用反射光的间接式控制，监控沉积速率以保持其稳定的沉积速率，沉积速率少于8/S，在基板两侧表面形成的正面膜系与反面膜系均为交替的SiO2层与Si层。该发明的制备方法可大大提高产品特性，特别适用于大批量生产；制备的3.46微米窄带滤光片，其透过率T＞90％，截止区域的截止深度小于0.1％，获得优异的信噪比，物理特性也满足实际使用要求。

主权项

一种3.46微米窄带滤光片，包括基板，位于所述基板两侧表面的正面膜系与反面膜系，其特征在于：所述基板的材质为JGS3型号的光学石英玻璃，其表面质量大于60/40；所述正面膜系与反面膜系均由镀膜材料SiO2和Si交替沉积而成并分别形成交替的SiO2层与Si层；所述正面膜系由内而外依次由Si层与SiO2层交替沉积共17层，其中包括9层Si层与8层SiO2层，即最内层及最外层均为Si层，最内层的Si层直接沉积在所述基板的正表面；所述反面膜系由内而外依次由Si层与SiO2层交替沉积共23层，其中包括12层Si层与11层SiO2层，即最内层及最外层均为Si层，最内层的Si层直接沉积在所述基板的反表面。