| 发明名称 | 低频率的合成射流促动器及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及低频率的合成射流促动器及其制造方法。公开了一种用于降低合成射流促动器(50，76，82，88，96，100)的结构自然频率的系统和方法。提供了合成射流促动器，其包括第一板(52)、与第一板(52)隔开且布置成与其平行的第二板(54)，以及设置成以便使第一板(52)与第二板(54)隔开且与第一板和第二板(52，54)一起限定腔室(64)的间隔件元件(62，78，84，90，98，102)。间隔件元件包括形成于其中的至少一个孔(66)，使得腔室(64)与腔室(64)外部的环境(68)处于流体连通，而且间隔件元件构造成以便响应于第一板和第二板(52，54)中的至少一个的偏转而以弯曲运动来变形。 | ||
| 申请公布号 | CN102102686B | 申请公布日期 | 2015.06.17 |
| 申请号 | CN201010615694.1 | 申请日期 | 2010.12.16 |
| 申请人 | 通用电气公司 | 发明人 | T·G·维茨尔;T·E·斯特彻尔;C·E·西莱伊;C·F·小沃尔夫;Y·V·厄图卡;B·P·惠伦 |
| 分类号 | F04F5/00(2006.01)I | 主分类号 | F04F5/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 严志军;曹若 |
| 主权项 | 一种合成射流促动器(50,76,82,88,96,100)，包括：第一板(52)；与所述第一板(52)隔开并且平行于所述第一板(52)而布置的第二板(54)；以及设置成使所述第一板(52)与所述第二板(54)隔开并且与所述第一板和第二板(52,54)一起限定腔室(64)的间隔件元件(62,78,84,90,98,102)，所述间隔件元件(62,78,84,90,98,102)具有形成于其中的至少一个孔(66)，使得所述腔室(64)与所述腔室(64)外部的环境(68)处于流体连通；以及其中，所述间隔件元件(62,78,84,90,98,102)构造成以便响应于所述第一板和第二板(52,54)中的至少一个的偏转而以弯曲运动来变形；其中，所述间隔件元件(62,78,84,90,98,102)构造成在所述第一板和第二板(52,54)中的至少一个被促使偏转时以向内和向外的弯曲运动来变形，所述向内和向外的弯曲运动沿着与所述第一板和第二板(52,54)中的所述至少一个的偏转方向垂直的方向。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||