发明名称 |
直立式沉积炉管 |
摘要 |
一种直立式沉积炉管,包括气体反应腔、气体输入管、尾气排出管以及基座,所述基座上固定有支撑架,所述支撑架具有与用于承载晶圆的晶舟上的凹槽相配合的结构,所述支撑架包括内轴和套管,所述内轴固定在基座上,所述套管套接在内轴外侧,套管适于在外力作用下绕内轴旋转。在晶舟上凹槽的摩擦力作用下,套管会绕内轴旋转,凹槽与支撑架之间的摩擦力是滚动摩擦力,滚动摩擦力远小于静摩擦力,从而减小支撑架的磨损,避免产生碎屑散落到气体反应腔,提高产品的良率。 |
申请公布号 |
CN102517565B |
申请公布日期 |
2015.06.17 |
申请号 |
CN201110436852.1 |
申请日期 |
2011.12.22 |
申请人 |
上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
发明人 |
王硕;许忠义 |
分类号 |
C23C16/458(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/458(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
骆苏华 |
主权项 |
一种直立式沉积炉管,包括气体反应腔、气体输入管、尾气排出管以及基座,所述基座上固定有支撑架,所述支撑架具有与用于承载晶圆的晶舟上的凹槽相配合的结构,其特征在于,所述支撑架包括内轴和套管,所述内轴固定在基座上,所述套管套接在内轴外侧,套管适于在外力作用下绕内轴旋转,且所述套管和内轴之间有空隙。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号 |