发明名称 直立式沉积炉管
摘要 一种直立式沉积炉管,包括气体反应腔、气体输入管、尾气排出管以及基座,所述基座上固定有支撑架,所述支撑架具有与用于承载晶圆的晶舟上的凹槽相配合的结构,所述支撑架包括内轴和套管,所述内轴固定在基座上,所述套管套接在内轴外侧,套管适于在外力作用下绕内轴旋转。在晶舟上凹槽的摩擦力作用下,套管会绕内轴旋转,凹槽与支撑架之间的摩擦力是滚动摩擦力,滚动摩擦力远小于静摩擦力,从而减小支撑架的磨损,避免产生碎屑散落到气体反应腔,提高产品的良率。
申请公布号 CN102517565B 申请公布日期 2015.06.17
申请号 CN201110436852.1 申请日期 2011.12.22
申请人 上海华虹宏力半导体制造有限公司 发明人 王硕;许忠义
分类号 C23C16/458(2006.01)I 主分类号 C23C16/458(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 骆苏华
主权项 一种直立式沉积炉管,包括气体反应腔、气体输入管、尾气排出管以及基座,所述基座上固定有支撑架,所述支撑架具有与用于承载晶圆的晶舟上的凹槽相配合的结构,其特征在于,所述支撑架包括内轴和套管,所述内轴固定在基座上,所述套管套接在内轴外侧,套管适于在外力作用下绕内轴旋转,且所述套管和内轴之间有空隙。
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