发明名称 |
断线修补方法和断线修补结构 |
摘要 |
本发明公开了一种断线修补方法和断线修补结构,其中,断线修补方法包括步骤:形成连接扫描线的断线两端的第一修补线;形成覆盖所述第一修补线的绝缘层;形成连接数据线的断线两端的第二修补线,所述第二修补线与第一修补线的交叉处具有所述绝缘层。本发明通过在修补的第一修补线和第二修补线之间隔离绝缘层,有效避免了扫描线和数据线断线交叉处发生短路,实现了同时修补两个金属层交叉处断线,提高了断线修补良率。 |
申请公布号 |
CN102981291B |
申请公布日期 |
2015.06.17 |
申请号 |
CN201210513181.9 |
申请日期 |
2012.12.04 |
申请人 |
深圳市华星光电技术有限公司 |
发明人 |
郑文达 |
分类号 |
G02F1/13(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/13(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 |
代理人 |
胡海国 |
主权项 |
一种断线修补方法,其特征在于,包括步骤:形成连接扫描线的断线两端的第一修补线;形成覆盖所述第一修补线的绝缘层;形成连接数据线的断线两端的第二修补线,所述第二修补线与第一修补线的交叉处具有所述绝缘层。 |
地址 |
518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号 |