发明名称 抗腐蚀粒子
摘要 本发明涉及抗腐蚀粒子,其基于无机氧化物产物例如用多价金属阳离子改性的二氧化硅或者氧化铝,并且任选的包含弱酸(该弱酸可以是无机或者有机性质的)阴离子和它们的共轭物。具体的,本发明涉及抗腐蚀颜料粒子,其包含无机氧化物或者无机氧化物混合物,所述无机氧化物或者无机氧化物混合物表现出介孔性和/或大孔性,使得平均孔径(在包括多于一种的氧化物的情况中是无机氧化物混合物的平均值)大于2nm,平均孔体积大于0.2ml/g。本发明还涉及制备这样的粒子的方法和由它们所制成的抗腐蚀组合物。本发明另外涉及施用了所述抗腐蚀组合物的制品。
申请公布号 CN102405262B 申请公布日期 2015.06.17
申请号 CN200980156397.0 申请日期 2009.12.08
申请人 格雷斯股份有限两合公司 发明人 T·E·弗莱彻尔
分类号 C09C1/30(2006.01)I;C09C1/36(2006.01)I;C09C1/40(2006.01)I 主分类号 C09C1/30(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 吕彩霞;李炳爱
主权项 一种抗腐蚀粒子的分散体,其包含:(a)流体,和(b)包含无机氧化物的抗腐蚀粒子,所述无机氧化物具有介孔性和/或大孔性,使得平均孔径是至少3nm和平均孔体积是至少0.2ml/g,其中所述无机氧化物用多价金属阳离子改性。2. 根据权利要求1的分散体,其中所述平均孔径是4nm‑50nm。3. 根据权利要求1的分散体,其中该无机氧化物粒子包含沉淀二氧化硅或者无机氧化物粒子的混合物,该混合物的至少一种组分是沉淀二氧化硅。4. 根据权利要求1的分散体,其中该无机氧化物粒子包含硅胶或者无机氧化物粒子的混合物,该混合物的至少一种组分是硅胶。5. 根据权利要求1的分散体,其中所述流体包含水、络合剂、粘合剂、成膜剂、杀菌剂或者聚合物。6. 根据权利要求1的分散体,其中所述粒子的平均粒度小于10μm。7. 根据权利要求1的分散体,其中所述粒子的平均粒度小于1 μm。8. 根据权利要求6的分散体,其中所述平均孔体积是0.2ml/g‑3ml/g。9. 根据权利要求6的分散体,其中所述平均孔体积是0.4ml/g‑1.2ml/g。10. 一种涂料,其包含权利要求1的分散体。11. 一种抗腐蚀粒子的分散体,其包含:(a)流体,和(b)抗腐蚀无机氧化物粒子,所述抗腐蚀无机氧化物具有介孔性和/或大孔性,使得平均孔径是至少3nm和平均孔体积是至少0.2ml/g,该粒子是用多价金属阳离子来改性的,任选的包含弱酸的无机或者有机阴离子和它们的共轭物,其中分别用符号<img file="dest_path_image001.GIF" wi="115" he="24" />表示第i种阳离子、阴离子或者氧化物的摩尔数;每种组分的总摩尔数是通过对所使用的全部阳离子、阴离子和氧化物求和来给出的,其中上横线表示多于一种阳离子、阴离子或者氧化物可包含于该颜料组合物中,<img file="dest_path_image002.GIF" wi="129" he="118" />其中<img file="dest_path_image003.GIF" wi="120" he="28" />分别是阳离子、阴离子和氧化物的总摩尔数;<img file="dest_path_image004.GIF" wi="88" he="27" />分别是与阴离子和氧化物相关的阳离子的总摩尔数;第i种阳离子、阴离子和氧化物的比例是作为阳离子、阴离子和氧化物的总数的分数<img file="dest_path_image005.GIF" wi="81" he="21" /><img file="dest_path_image006.GIF" wi="67" he="192" />构成该产物的多价金属阳离子(<img file="dest_path_image007.GIF" wi="22" he="22" />)、无机氧化物(<img file="dest_path_image008.GIF" wi="21" he="21" />)和阴离子(<img file="dest_path_image009.GIF" wi="22" he="21" />)的总数(单位:摩尔)是通过下面的等式组来确定的,其中符号<img file="dest_path_image010.GIF" wi="11" he="13" />和<img file="dest_path_image011.GIF" wi="13" he="12" />指的是每克氧化物的表面积和每nm<sup>2</sup>的氧化物的表面羟基数,在包括多于一种的氧化物时是通过平均来确定的:<img file="dest_path_image012.GIF" wi="123" he="28" />其中<img file="dest_path_image013.GIF" wi="547" he="144" />使用符号b和c来表示每个等式中不同的项,加上用下面的关系式来表示阴离子与氧化物期望的比例<img file="dest_path_image014.GIF" wi="10" he="11" />:<img file="dest_path_image015.GIF" wi="341" he="58" />作为基础,使用这样的限制条件:<img file="dest_path_image016.GIF" wi="130" he="24" />其中符号<img file="dest_path_image017.GIF" wi="15" he="16" />给出了在处理中所涉及的表面羟基与阳离子的理论比,符号<img file="356014dest_path_image010.GIF" wi="11" he="13" />确定了阳离子和阴离子之间的化学计量比,符号<img file="dest_path_image018.GIF" wi="58" he="24" />代表了构成该组合物的阳离子和阴离子的平均化合价,并且在每种情况中通过下面的形式来确定:<img file="dest_path_image019.GIF" wi="115" he="58" />其中<img file="dest_path_image020.GIF" wi="48" he="21" />是第i种阳离子或者阴离子的化合价和其作为阳离子或者阴离子总数(即,<img file="dest_path_image021.GIF" wi="48" he="21" />)的分数的比例,<img file="dest_path_image022.GIF" wi="121" he="23" />是阳离子、阴离子和氧化物的摩尔量,或者代表了适当的平均值,<img file="dest_path_image023.GIF" wi="20" he="19" />是阿伏伽德罗常数。12. 根据权利要求11的分散体,其中所述平均孔径是4nm‑50nm。13. 根据权利要求11的分散体,其中该无机氧化物包含二氧化硅、氧化铝、二氧化钛或者其混合物。14. 根据权利要求11的分散体,其中该无机氧化物粒子包含沉淀二氧化硅或者无机粒子的混合物,该混合物的至少一种组分是沉淀二氧化硅。15. 一种抗腐蚀粒子的粉末,其包含:(a)包含无机氧化物的抗腐蚀粒子,所述无机氧化物具有介孔性和/或大孔性使得平均孔径是至少3nm和平均孔体积是至少0.2ml/g。16. 根据权利要求15的粉末,其中所述平均孔径是至少3nm。17. 根据权利要求15的粉末,其中所述平均孔径是4nm‑50nm。18. 一种涂料,其包含权利要求15的粉末。
地址 德国沃姆斯
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