| 摘要 |
<p>본 발명의 과제는 대형 기판에 높은 성막 레이트로 광학 다층막을 형성할 수 있는 박막 형성장치, 스퍼터링 캐소드 및 박막 형성방법을 제공하는 것에 있다. 상기 과제를 해결하기 위해 본 발명의 박막 형성장치는 진공조(21) 내에서 스퍼터링에 의해 기판(43) 상에 금속 화합물의 박막을 형성하는 박막 형성장치(1)로서, 상기 진공조(21) 내에 금속 또는 도전성이 있는 금속 화합물로 이루어지는 타겟(63a, b)과, 그 타겟(63a, b)과 상호 전자기적 및 압력적으로 서로 영향을 주도록 설치되어 반응성 가스의 활성종을 생성하는 활성종원을 구비하고, 상기 활성종원은 상기 반응성 가스를 공급하는 가스원(76, 77)과, 에너지를 진공조 내에 공급하여 상기 반응성 가스를 플라즈마 상태로 여기하는 에너지원(80)을 구비하며, 상기 에너지원(80)은 상기 진공조(21)와의 사이에 상기 에너지를 진공조(21) 내에 공급하기 위한 유전체 창을 구비하고, 그 유전체 창은 상기 기판(43)에 대해 평행하게 또는 상기 기판(43)에 대해 90° 미만의 각도로 타겟(63a, b) 측으로 경사지게 배치되는 것을 특징으로 한다.</p> |
