发明名称 |
抗反射透镜和制造所述抗反射透镜的方法 |
摘要 |
本发明涉及一种将抗反射涂层施加到模具的光学表面上的方法。在一个实施例中,所述方法包括以下步骤:提供具有光学表面的透镜模具;在所述光学表面上形成厚度约为30nm到40nm的超疏水性材料层,其中所述超疏水性材料含有双臂硅烷;在所述超疏水性材料层上形成抗反射涂层的层状结构;以及形成环状氮杂硅烷偶合剂层,其是使用气相沉积或通过使用环状氮杂硅烷偶合剂于非质子溶剂中的溶液浸涂而以单层厚度沉积到所述抗反射涂层的层状结构上。 |
申请公布号 |
CN104718466A |
申请公布日期 |
2015.06.17 |
申请号 |
CN201280076345.4 |
申请日期 |
2012.10.10 |
申请人 |
QSPEX科技有限公司 |
发明人 |
苏凯;莱斯利·F·斯特宾斯;比尔·曼特切;尤金·C·莱特 |
分类号 |
G02B1/18(2015.01)I;G02B1/115(2015.01)I;B32B7/02(2006.01)I |
主分类号 |
G02B1/18(2015.01)I |
代理机构 |
深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 |
代理人 |
蔡晓红;柯夏荷 |
主权项 |
一种用于将抗反射涂层施加到模具的光学表面上的方法,其包含以下步骤:(a)提供具有光学表面的透镜模具;(b)在所述透镜模具的所述光学表面上形成氟化物或氧化物材料的沉积层;(c)在所述沉积层上形成疏水性材料层,其中所述疏水性材料含有一定量的双臂硅烷,所述量是所述疏水性材料的相对百分比;(d)在所述疏水性材料层上形成厚度约为5nm到40nm的第一SiO<sub>2</sub>层;(e)在所述第一SiO<sub>2</sub>层上形成抗反射涂层的层状结构;以及(f)形成硅烷偶合剂层,其是在非质子条件下使用气相沉积或通过使用硅烷偶合剂于非质子溶剂中的溶液浸涂而以单层厚度沉积到所述抗反射涂层的层状结构上。 |
地址 |
美国佐治亚州阿法东乐特蓝草湖大道1525 |