| 发明名称 | 与碳纳米结构的光蚀刻划定的接触 | ||
| 摘要 | 本发明描述了制造纳米结构、包括由碳纳米管构成的纳米结构的方法，和通过这些方法制备的纳米结构、器件和组件。 | ||
| 申请公布号 | CN102449748B | 申请公布日期 | 2015.06.17 |
| 申请号 | CN201080020748.8 | 申请日期 | 2010.05.07 |
| 申请人 | 宾夕法尼亚大学理事会 | 发明人 | 阿兰·T·小约翰松;莱恩·A·琼斯;塞缪尔·M·卡米斯 |
| 分类号 | H01L21/36(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/36(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 张颖;樊卫民 |
| 主权项 | 制备纳米结构的方法，包括：(a)提供其上叠放至少一个纳米维度器件的衬底；(b)将所述纳米维度器件的至少一部分用与所述纳米维度器件没有通过π‑π重叠或者共价或离子键合而相互作用的至少一层钝化材料涂覆；和(c)用至少一种光致抗蚀剂涂覆所述钝化材料的至少一部分；其中所述钝化层是光敏性的脂肪族聚合物或共聚物，或包含脂肪族聚合物或共聚物前体，或饱和的蜡或脂肪族表面活性剂，所述钝化材料对成像和光学处理敏感。 | ||
| 地址 | 美国宾夕法尼亚州 | ||