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<p>열반응형 레지스트 재료로서 구리의 산화물을 이용하여 레이저광으로 노광한 경우에, 노광·미노광부를 선택적으로 에칭할 수 있는 산화구리용의 에칭액 및 에칭 속도의 제어 및 그것을 이용한 에칭 방법을 제공하는 것. 본 발명의 에칭액은, 가수가 다른 산화구리를 함유하는 산화구리 함유층으로부터 특정 가수의 산화구리를 선택적으로 제거하기 위한 산화구리의 에칭액으로서, 적어도 아미노산과 킬레이트제와 물을 포함하고, 아미노산의 중량 비율이 킬레이트제보다 많으며, 또한 그 pH가 3.5 이상인 것을 특징으로 한다.</p> |
