发明名称 ETCHANT HAVING LOW ETCH RATE AND METHOD OF MANUFACTURING A DISPLAY SUBSTRATE USING THE SAME
摘要 <p>저식각율 에천트(low etch-rate etchant) 및 이를 이용한 표시 기판의 제조 방법이 개시된다. 저식각율 에천트는 금속막 및/또는 금속 산화막을 식각하는 과산화수소(H2O2), 과산화수소의 반응을 억제하는 첨가제 및 여분의 용매를 포함한다. 이에 따라, 대면적 및 고해상도의 요구에 부합하는 신호 배선의 제조 신뢰성을 향상시킬 수 있다.</p>
申请公布号 KR101528753(B1) 申请公布日期 2015.06.16
申请号 KR20150000636 申请日期 2015.01.05
申请人 发明人
分类号 G02F1/1362;G02F1/1368 主分类号 G02F1/1362
代理机构 代理人
主权项
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