发明名称 无裂痕氮化镓材料;CRACK-FREE GALLIUM NITRIDE MATERIALS
摘要 一种用于制造氮化镓材料的方法,包含该等步骤:a)提供一基材b)于该基材上形成一过渡层,该过渡层系组分性分级使得该过渡层在其深度(z)处的Al浓度系该深度之函数f(z);及c)在该过渡层上形成一层氮化镓材料;其中在步骤中生长之该过渡层的该Al分级函数f(z)连续变化。; b) forming a transition layer over the substrate, the transition layer being compositionally graded such that the Al concentration of the transition layer at a depth (z) thereof is a function f(z) of that depth; and c) forming a layer of gallium nitride material over the transition layer; wherein the Al grading function f(z) of the transition layer grown in step varies continuously.
申请公布号 TW201523704 申请公布日期 2015.06.16
申请号 TW103135842 申请日期 2014.10.16
申请人 奈米根有限公司 NANOGAN LIMITED 发明人 王 望南 WANG, WANG NANG
分类号 H01L21/205(2006.01);C23C16/34(2006.01) 主分类号 H01L21/205(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群陈文郎
主权项
地址 英国 GB