用于使抗指纹涂层退火之设备及方法;APPARATUS AND PROCESS FOR ANNEALING OF ANTI-FINGERPRINT COATINGS

摘要

本发明提供原位退火站，用来于限定的温度下，经控制之水蒸汽压力的气氛中处理基板。此种站可作为处理室而被集成并入多室处理工具内，于其中进行抗指纹涂覆法。基板始终在真空条件下，直到退火程序完成为止。实验数据显示，相较于知技术，藉由在抗指纹涂覆步骤后不久立即将此原位处理引入水蒸汽中，可实现后续的移位固化持续期间显着地减短。;本发明又提供一种基板沉积法，藉由将该基板暴露于温度约130℃，次大气压力下的水蒸汽中达约5秒，再将其退火。;The invention further addresses a deposition process for a substrate to be annealed by exposing it to water-vapour under sub atmospheric pressure at a temperature of ca. 130℃