发明名称 微影投影曝光设备的照明系统;ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
摘要 本发明揭示一种微影投影曝光设备(10)的照明系统,包含:一光瞳形成单元(36),其引导一空间光调变器(52)上的光线,其中该调变器以一空间解决方式传输或反射入射光,一物镜(58),其将该空间光调变器(52)的一光离开表面(57)成像于一光学整合器(60)的光进入切面(75)上,如此该光离开表面(57)上一物体区域(110)的一影像(110')与该等光进入切面之一者完全重合,该光瞳形成单元(36)以及该空间光调变器(52)受到控制,如此该物体区域(110)由该光瞳形成单元(36)完全照明,并且关联于该物体区域(110)内一点的投影光以至少部分与可变方式避免入射该等光进入切面(75)之一者。
申请公布号 TW201523167 申请公布日期 2015.06.16
申请号 TW103140015 申请日期 2014.11.19
申请人 卡尔蔡司SMT有限公司 CARL ZEISS SMT GMBH 发明人 帝俊瑟 马可斯 DEGUENTHER, MARKUS;戴夫丹柯 夫拉迪密尔 DAVYDENKO, VLADIMIR;柯柏 汤玛斯 KORB, THOMAS;斯克勒山纳 法兰克 SCHLESENER, FRANK;希特 史黛芬妮 HILT, STEFANIE;荷吉尔 沃夫岗 HOEGELE, WOLFGANG
分类号 G03F7/20(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 李宗德
主权项
地址 德国 DE