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<p>광학 장치(24, 60)는 임의의 주어진 위치에서 전기 광학 층을 가로질러 인가되는 전압 파형에 의해 결정되는 전기 광학 층의 활성 영역 내에서의 상기 주어진 위치에서 국부적 유효 굴절률을 갖는 전기 광학층(40, 62)을 포함한다. 활성 영역 위로 뻗어있는 평행 도전성 스트립을 포함하는 여진 전극(46, 68, 72)의 어레이는 전기 광학층의 하나 또는 양 측면 위로 배치된다. 제어 회로(48, 70, 74)가 여진 전극으로 각각의 제어 전압 파형을 인가하도록 결합되고, 전기 광학층에서 특정 위상 변조 프로파일을 생성하도록 여진 전극에 인가된 각각의 제어 전압 파형을 동시에 변조하도록 구성된다.</p> |
