| 发明名称 |
图案形成方法、电子元件的制造方法;PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE |
| 摘要 |
本发明的图案形成方法包含：步骤A，于基板上形成含有有机物的图案1；步骤B，形成覆盖图案1的膜2；以及步骤C，藉由簇离子蚀刻膜2而将膜2的一部分去除，从而使图案1的至少一部分表露出。; a step B, forming a film 2 covering the pattern 1; and a step C, removing a portion of the film 2 by etching the film 2 through cluster ions, so as to expose at least one portion of the pattern 1. |
| 申请公布号 |
TW201523699 |
申请公布日期 |
2015.06.16 |
| 申请号 |
TW103141869 |
申请日期 |
2014.12.03 |
| 申请人 |
富士软片股份有限公司 FUJIFILM CORPORATION |
发明人 |
吉留正洋 YOSHIDOME, MASAHIRO;山中司 YAMANAKA, TSUKASA;上羽亮介 UEBA, RYOSUKE;中村贵之 NAKAMURA, TAKASHI |
| 分类号 |
H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
叶璟宗郑婷文詹富闵 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 JP |
