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发明名称
电浆装置及电浆装置的操作方法;PLASMA DEVICE AND OPERATION METHOD OF PLASMA DEVICE
摘要
一种电浆装置包括一介电屏障、一第一电极结构、一第二电极结构以及一第三电极结构。介电屏障具有一上游端及一下游端,且定义出一空间。第一电极结构位于空间中。第一电极结构与介电屏障之间具有一多重宽度的间隙。介电屏障位于第一电极结构与第二电极结构之间。第二电极结构包括多个电极块。这些电极块由上游端向下游端依序排列。介电屏障、第一电极结构与第二电极结构都位于第三电极结构的同一侧。第三电极结构位于介电屏障的下游端。这些电极块与第三电极结构之间的最小距离不小于第一电极结构与第三电极结构之间的距离。
申请公布号
TW201523688
申请公布日期
2015.06.16
申请号
TW102144496
申请日期
2013.12.04
申请人
财团法人工业技术研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人
翁志强 WENG, CHIH CHIANG;徐瑞美 HSU, JUI MEI;杜陈忠 DU, CHEN CHUNG;蔡陈德 TSAI, CHEN DER
分类号
H01J37/32(2006.01)
主分类号
H01J37/32(2006.01)
代理机构
代理人
詹铭文叶璟宗
主权项
地址
新竹县竹东镇中兴路4段195号 TW
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