发明名称 |
空白光罩的制造方法及空白光罩;METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK BLANK |
摘要 |
提供提高构成空白光罩之光学膜之特性的面内均一性之技术。在腔室(50)内,把在主面形成光学膜(20)之石英基板(10),载置到承受器(30)上。在灯罩(90)内,收纳有闪光灯(60),闪光光通过(2)片石英板(70a、70b),朝光学膜(20)照射。2片石英板(70a、70b)中,在石英板(70b)的表面,形成透过率调整区域(80),照射到光学膜(20)之光量,系在面内具有分布。对光学膜(20)照射闪光光的话,该光学膜(20)的光学特性与所受到的照射能量相依而变化的缘故,例如,在成膜后的光学膜的特性在面内不会均一而具有分布的场合,把具有使其抵销般的照射能量分布的闪光照射到光学膜的话,可以提高光学膜的特性之面内均一性。 |
申请公布号 |
TW201523121 |
申请公布日期 |
2015.06.16 |
申请号 |
TW103122841 |
申请日期 |
2014.07.02 |
申请人 |
信越化学工业股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. |
发明人 |
深谷创一 FUKAYA, SOUICHI;稲月判臣 INAZUKI, YUKIO |
分类号 |
G03F1/26(2012.01);G03F1/32(2012.01) |
主分类号 |
G03F1/26(2012.01) |
代理机构 |
|
代理人 |
林志刚 |
主权项 |
|
地址 |
日本 JP |