CONDUCTIVE PATTERN FABRICATION METHOD

摘要

본 발명은 고온 또한 장시간의 가열 처리를 수반하는 일 없이 도전성이 양호한 도전 패턴을 얻을 수 있어 생산 효율을 현저하게 향상시키는 것이 가능한 도전 패턴의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 도전성 입자(A) 및 유기 화합물(B)을 포함하는 기판 상의 막 또는 패턴을 브로드 스펙트럼을 갖는 광으로 노광해서 도전막 또는 도전 패턴을 얻는 노광 공정을 구비하는 도전 패턴의 제조 방법을 제공한다.