半导体元件之制造方法及半导体元件;SEMICONDUCTOR ELEMENT MANUFACTURING METHOD AND SEMICONDUCTOR ELEMENT

摘要

本发明之半导体元件之制造方法包含：半导体元件形成步骤，其形成包含介电质膜之半导体元件；切割区域形成步骤，其去除区划半导体元件之区划区域中的介电质膜而形成切割区域；及切割步骤，其将切割区域进行切割。