| 发明名称 |
基板洗净装置及基板处理装置;SUBSTRATE CLEANING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS |
| 摘要 |
本发明提供一种可将负载传感器搭载于最佳位置，且实现大的调整幅度，并减少药液喷嘴及冲洗液喷嘴等布局设计上之限制的基板洗净装置。基板洗净装置具备：滚筒总成95，其系至少包含接触于基板W之滚筒洗净部件46、及旋转自如地支撑该滚筒洗净部件46之滚筒臂42；支撑臂58，其系用于支撑滚筒总成95；调整螺杆83，其系贯穿支撑臂58而旋入滚筒总成95；及螺杆支柱84，其系固定调整螺杆83对支撑臂58在上下方向之相对位置，并可旋转地支撑调整螺杆83。 |
| 申请公布号 |
TW201521888 |
申请公布日期 |
2015.06.16 |
| 申请号 |
TW103134163 |
申请日期 |
2014.10.01 |
| 申请人 |
荏原制作所股份有限公司 EBARA CORPORATION |
发明人 |
田中英明 TANAKA, HIDEAKI |
| 分类号 |
B08B3/08(2006.01);B08B11/00(2006.01);B08B13/00(2006.01);H01L21/304(2006.01) |
主分类号 |
B08B3/08(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈传岳郭雨岚锺文岳 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 JP |
