转印用遮罩之制造方法及显影液;METHOD OF MANUFACTURING TRANSFER MASK AND DEVELOER

摘要

本发明提供一种降低抗蚀图案之膨润、图案崩塌、及抗蚀图案之变形，而形成具有直线性图案边缘之抗蚀图案的技术。;本发明系关于一种转印用遮罩之制造方法，其包括：准备具有薄膜之基板之步骤；于上述薄膜之表面形成抗蚀膜之步骤；对上述抗蚀膜进行曝光之步骤；藉由进行对曝光后之上述抗蚀膜进行显影之步骤而形成抗蚀图案之步骤；将上述抗蚀图案作为遮罩而对薄膜进行蚀刻之步骤；且于上述形成抗蚀图案之步骤中，上述抗蚀膜系藉由化学增幅型且负型之抗蚀液所形成之抗蚀膜，于进行上述显影之步骤时使用之显影液包含：作为有机溶剂之溶剂A及溶剂B、及为有机溶剂且与上述溶剂A及上述溶剂B相比不易使上述抗蚀膜溶解之溶剂C，上述溶剂A之沸点高于上述溶剂C，上述溶剂C之沸点高于上述溶剂B。