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经营范围
发明名称
基板处理装置及基板处理方法;SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
摘要
将基板表面之洗净液确实地置换为挥发性溶媒,而有效地防止基板乾燥时之图案倒坏,并且提升此种基板之生产性。基板处理装置(10),其溶媒供给部(58)系构成为附加性地具备有磁场形成手段,磁场形成手段(100),系对于一并存在有洗净液和挥发性溶媒之基板(W)的表面施加磁场,以将基板(W)表面之洗净液与挥发性溶媒作搅拌混合,而促进对于洗净液之该挥发性溶媒的置换。
申请公布号
TW201523724
申请公布日期
2015.06.16
申请号
TW103133985
申请日期
2014.09.30
申请人
芝浦机械电子装置股份有限公司 SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人
长嶋裕次 NAGASHIMA, YUJI;松下淳 MATSUSHITA, JUN;斋藤裕树 SAITO, YUKI;林航之介 HAYASHI, KONOSUKE;宫崎邦浩 MIYAZAKI, KUNIHIRO
分类号
H01L21/306(2006.01)
主分类号
H01L21/306(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本 JP
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