发明名称 洗净方法及洗净装置
摘要 本发明系一种关于施加处理液以洗净被洗净物之洗净方法,其系具有:将含有微奈米气泡或奈米气泡等较小尺寸之气泡的第1处理液,施于前述被洗净物之第1步骤;与在该第1步骤之后,将含有较被包含在前述第1处理液之气泡大之尺寸的微米气泡等气泡的第2处理液,施于前述第1处理液附着的状态之前述被洗净物之第2步骤;在第1处理液洗净之后,由于以含有较包含在该第1处理液之气泡大之尺寸的气泡之第2处理液执行洗净,所以可藉由利用较小气泡之理想性质的第1处理液洗净之后,再利用较大气泡之理想性质的第2处理液执行洗净。
申请公布号 TW201523713 申请公布日期 2015.06.16
申请号 TW104108290 申请日期 2011.04.20
申请人 芝浦机械电子装置股份有限公司 SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION 发明人 广濑治道 HIROSE, HARUMICHI
分类号 H01L21/30(2006.01);B08B3/02(2006.01);B08B3/08(2006.01) 主分类号 H01L21/30(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群陈文郎
主权项
地址 日本 JP
您可能感兴趣的专利