首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
基板处理方法及基板处理装置
摘要
提供一种基板处理方法及基板处理装置,该基板处理方法可有效除去受到摩擦处理中可能生成之氟离子影响所生成的污染成分。一种基板处理方法,系处理使用于液晶显示面板且已摩擦处理完毕之基板;该方法之构成包含:第1步骤,系藉由溶氮水洗净前述基板,且该溶氮水系使至少含氮气之气体溶解于水而形成者;并且前述溶氮水之温度系调整于40℃以上且80℃以下之范围内。
申请公布号
TW201523076
申请公布日期
2015.06.16
申请号
TW103127599
申请日期
2014.08.12
申请人
芝浦机械电子装置股份有限公司 SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人
大森圭悟 OHMORI, KEIGO;矶明典 ISO, AKINORI;今冈裕一 IMAOKA, YUUICHI;手岛理惠 TESHIMA, RIE
分类号
G02F1/13(2006.01)
主分类号
G02F1/13(2006.01)
代理机构
代理人
恽轶群陈文郎
主权项
地址
日本 JP
您可能感兴趣的专利
一种电子门铃
一种电磁感应加热辊装置
具双层保护的电加热装置
金属电池盖及移动终端
插拔手指防偏FPC
自调节角度配线架
水冷散热器
一种大型永磁直驱风力发电机转子玻纤布粘贴压板工装
一种终端
电机的定子框架和电机
一种基于Mesh网络的可移动设备的通信系统
一种转子冲片
一种用于计算机方面的路由器存放盒
一种多反射全方位太阳能电池板
工件扫描辅助装置及工件扫描装置
一种太阳能光热双发电电池组件
基于无线数字传输技术的校企数字传输课堂构建系统
一种带支架的手机外壳
应急照明分配电装置
一种升压架