| 摘要 |
一种光学量测方法包含：提供待测物，其具有参考平面及待测平面；将第一光束进入第一光学单元，藉此该参考平面及该待测平面所反射的光束分别具有第一及第二光程；撷取该参考平面及该待测平面所反射的光束影像，以合成为第一影像；将第二光束进入第二光学单元，藉此该参考平面及该待测平面所反射的光束分别具有第三及第四光程；撷取该参考平面及该待测平面所反射的光束影像，以合成为第二影像；将该第一及第二影像进行影像处理，以产生干涉条纹影像；以及计算多条干涉条纹之偏移角度，以得知该待测平面相对该参考平面之垂直度的偏移角度。 |
