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经营范围
发明名称
基板处理装置及基板处理方法;SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
摘要
将基板表面之洗净液确实地置换为挥发性溶媒,而有效地防止基板乾燥时之图案倒坏。在基板处理装置(100)中,系具备有溶媒置换手段(有机溶媒供给部(15)以及溶媒供给部(34)),其系将洗净液置换为低浓度之挥发性溶媒,之后进而置换为高浓度之挥发性溶媒。
申请公布号
TW201523725
申请公布日期
2015.06.16
申请号
TW103133987
申请日期
2014.09.30
申请人
芝浦机械电子装置股份有限公司 SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人
长嶋裕次 NAGASHIMA, YUJI;松下淳 MATSUSHITA, JUN;林航之介 HAYASHI, KONOSUKE;宫崎邦浩 MIYAZAKI, KUNIHIRO;古矢正明 FURUYA, MASAAKI;东野秀史 AZUMANO, HIDEHITO;田内豊泰 TAUCHI, TOYOYASU
分类号
H01L21/306(2006.01)
主分类号
H01L21/306(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本 JP
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