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<p>기재(W)의 표면에 대해 PVD 처리를 행하여 피막을 형성하고, 또한 그 두께의 균일성을 높이는 것이 가능한 성막 장치(1)가 제공된다. 이 장치는, 기재(W)를 수용하는 진공 챔버(2)와, 그 내벽면에 설치되는 복수의 증발원과, 복수의 기재(W)를 지지하면서 상기 기재(W)를 진공 챔버(2) 내에서 이동시키는 기재 지지 부재(3)를 구비한다. 복수의 증발원은, 테이블 회전 중심축을 따르는 방향으로 배열되도록 배치되고, 기재(W)의 양단부측에 대향하는 증발원(4a, 4d) 중 적어도 한쪽인 제1 증발원과 그 내측에 인접하는 제2 증발원(4b, 4c)을 포함한다. 제1 증발원은, 제2 증발원보다도 기재(W)측으로 돌출되도록 배치된다.</p> |
