A LITHOGRAPHIC APPARATUS, A PROJECTION SYSTEM AND A DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要
<p>패터닝된 방사선 빔(9)을 기판의 타겟부 상으로 투영하도록 구성된 투영 시스템(7), 사용 시 상기 패터닝된 방사선 빔(9)이 투영되는 진공 챔버(8), 및 상기 챔버(8) 내에 퍼지 가스 유동을 제공하도록 구성된 퍼지 시스템(13, 16, 17)을 포함하는 리소그래피 장치(1)가 개시된다.</p>
