| 发明名称 |
EXPOSURE METHOD, SUBSTRATE STAGE, EXPOSURE APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE |
| 摘要 |
투영광학계 (PL) 와 액체 (1) 를 통해 패턴의 이미지를 기판 (P) 상에 투영함으로써 기판 (P) 을 노광할 때, 기판 (P) 의 측면 (PB), 이면 (PC) 을 발액 처리한다. 이러한 구성에 의해 기판의 에지 영역을 액침 노광하는 경우에 양호하게 액침 영역을 형성하여, 액체의 기판 스테이지 외부로의 유출을 억제한 상태에서 노광할 수 있는 노광 방법을 제공한다. |
| 申请公布号 |
KR101528016(B1) |
申请公布日期 |
2015.06.12 |
| 申请号 |
KR20127025739 |
申请日期 |
2004.06.11 |
| 申请人 |
가부시키가이샤 니콘 |
发明人 |
오와 소이치;마고메 노부타카;히루카와 시게루;구도 요시히코;이노우에 지로;고노 히로타카;네이 마사히로;이마이 모토카츠;나가사카 히로유키;시라이시 겐이치;니시이 야스후미;다카이와 히로아키 |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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