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经营范围
发明名称
发光二极体阵列与其形成方法
摘要
申请公布号
TWI488295
申请公布日期
2015.06.11
申请号
TW101118755
申请日期
2012.05.25
申请人
华夏光股份有限公司
发明人
卢怡安
分类号
H01L27/15;H01L33/62
主分类号
H01L27/15
代理机构
代理人
杨启元 台北市大安区复兴南路1段200号8楼
主权项
一种发光二极体阵列的形成方法,包含:形成一磊晶结构在一暂时基板上,该磊晶结构包含一第一型掺杂层、一发光层以及一第二型掺杂层;蚀刻该磊晶结构,以形成复数个发光二极体;蚀刻一或多个该发光二极体,移除该发光层以及该第二型掺杂层,并暴露至少部分该第一型掺杂层,藉此形成一或多个接触单元;藉由一或多个内连线电性耦合(electrically coupled)该接触单元及/或该发光二极体;形成一功能结构在该复数个发光二极体与该一或多个接触单元上方;以及移除该暂时基板。
地址
新竹市新竹科学工业园工业东四路36号
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