发明名称 | 全金属闸极结构之图案成形方法 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI488235 | 申请公布日期 | 2015.06.11 |
申请号 | TW101107497 | 申请日期 | 2012.03.06 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 隆 凡恩;高明辉 |
分类号 | H01L21/3065;H01L21/3213 | 主分类号 | H01L21/3065 |
代理机构 | 代理人 | 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼 | |
主权项 | 一种在基板上闸极结构图案成形的方法,包含:制做一金属闸极结构于一基板之上,该金属闸极结构包含:一高介电常数(高k值)介电层;一第一闸极层,形成于该高k值介电层之上;及一第二闸极层,形成于该第一闸极层之上,该第一闸极层包含一或多含金属层;制做一遮罩层,其具有于该金属闸极结构之上的一图案;转移该图案至该第二闸极层;转移该图案至该第一闸极层;转移在该第一闸极层的该图案至该高k值介电层;及在转移该图案至该高k值介电层之该步骤之前及在转移该图案至该第一闸极层之该步骤期间,利用含氮和/或含碳环境钝化该第一闸极层的一暴露表面,以降低相对于该第二闸极层之该第一闸极层的底切。 | ||
地址 | 日本 |