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经营范围
发明名称
沟渠式闸极金氧半场效电晶体及其制造方法
摘要
申请公布号
TWI488309
申请公布日期
2015.06.11
申请号
TW102119353
申请日期
2013.05.31
申请人
硕颉科技股份有限公司
发明人
郑谦兴
分类号
H01L29/78;H01L21/28
主分类号
H01L29/78
代理机构
代理人
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;叶璟宗 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项
一种沟渠式闸极金氧半场效电晶体的制造方法,包括:于具有一第一导电型之一基底上形成具有该第一导电型之一磊晶层;于该磊晶层中形成具有该第一导电型的一源极区;于该源极区中形成至少二第一沟渠;于该些第一沟渠中分别填满多个第一绝缘层,以构成多个隔离结构;于该磊晶层中形成一第二沟渠,使得该些隔离结构位于该第二沟渠的两侧且与该第二沟渠接触;于该第二沟渠中形成一第二绝缘层;于该第二沟渠中填入一第一导体层;于该第二沟渠两侧的该磊晶层中分别形成二第三沟渠;以及于该些第三沟渠中分别填入多个第二导体层。
地址
台北市松山区南京东路4段16号4楼
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