| 发明名称 |
包含供无空隙次微米结构特征填充之抑制剂的金属电镀用组合物 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI487813 |
申请公布日期 |
2015.06.11 |
| 申请号 |
TW099125535 |
申请日期 |
2010.07.30 |
| 申请人 |
巴地斯颜料化工厂 |
发明人 |
罗杰 康尼利亚;瑞索 罗曼 班尼狄克;贺格 亚力山佐;梅尔 迪尔特;伊尼特 夏落特 |
| 分类号 |
C25D13/10;C07C43/196;C07C43/10;H01L21/288 |
主分类号 |
C25D13/10 |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
| 主权项 |
一种包含至少一种金属离子源及至少一种添加剂之组合物，该至少一种添加剂可藉由使a)藉由缩合作用衍生自至少一种式(I)多元醇之多元醇缩合物化合物X(OH)m(I)与b)至少一种环氧烷反应，以形成包含聚氧伸烷基侧链之多元醇缩合物而获得，其中m系3至6之整数且X系含2至10个碳原子之m价直链或分支链脂族或环脂族基，其可经取代或未经取代。 |
| 地址 |
德国 |
