发明名称 沟渠金属氧化物半导体场效电晶体(MOSFET)及其制造方法
摘要
申请公布号 TWI488304 申请公布日期 2015.06.11
申请号 TW097144789 申请日期 2008.11.19
申请人 美格纳半导体有限公司 发明人 申铉光;李旿
分类号 H01L29/78;H01L21/336 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种沟渠金属氧化物半导体场效电晶体,其包括:一基板,其上面依次形成有一磊晶层及一主体层;一沟渠,其垂直形成于该磊晶层及该主体层之一中央部分中;一第一闸极氧化物膜,其形成于该沟渠之一内壁上;一扩散氧化物膜,其形成于介于该沟渠之下表面与该基板之上表面之间的该磊晶层中,且其具有大于该第一闸极氧化物膜之厚度的厚度以及大于该沟渠之宽度的宽度;一闸极,其形成于具有该第一闸极氧化物膜之该沟渠中;一第二闸极氧化物膜,其形成于该闸极上;以及一源极区,其形成于该闸极之上部的两侧处,其中与该磊晶层接触之该扩散氧化物膜系向外朝向该磊晶层倾斜(tilted)。
地址 南韩