| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Polarisationssystem (1) aufweisend folgende Merkmale: – ein erstes Substrat (3) aus einem ersten Substratmaterial mit einem darauf aufgebrachten ersten Schichtsystem (3a) und zumindest ein in einem Strahlengang (2) nachfolgendes zweites Substrat (4) aus einem zweiten Substratmaterial mit einem darauf aufgebrachten zweiten Schichtsystem (4a); – wobei das erste und zweite Schichtsystem einen auf dem Substrat aufgebrachten ersten Stapel (3b, 4b) und einen auf dem ersten Stapel aufgebrachten zweiten Stapel (3c, 4c) umfassen; – wobei der erste Stapel eine alternierende Reihenfolge von hoch- und niedrigbrechenden oxidischen Schichten umfasst; – wobei der zweite Stapel eine alternierende Reihenfolge von hoch- und niedrigbrechenden fluoridischen Schichten umfasst; – wobei das zumindest erste und zweite Schichtsystem (3a, 4a) einen den Strahlengang (2) bildenden unpolarisierten Strahl (2a), der in einem Winkel Φ, der größer als der Brewsterwinkel für die eingesetzten Substratmaterialien ist, auf das Schichtsystem (3a, 4a) trifft, in eine erste die Substrate transmittierende und polarisierte erste Komponente (2d) und eine an dem Schichtsystem (3a, 4a) reflektierte und polarisierte zweite Komponente (2e) teilen; – wobei das erste und zweite Schichtsystem (3a, 4a) in ihrer Anzahl an oxidischen und fluoridischen Schichten derart ausgelegt sind, dass der Anteil der reflektierten und polarisierten zweiten Komponente (2e) am den Strahlengang bildenden unpolarisierten Strahl (2a) zumindest 90% beträgt. |
