发明名称 |
Messverfahren und Bearbeitungsvorrichtung |
摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft Messverfahren, bei dem ein Messstrahl (24) während einer mittels eines Bearbeitungsstrahls (16) erfolgenden Bearbeitung eines Werkstücks (17) emittiert, zu einem Bearbeitungsort (32) geleitet und anschließend mittels Interferometrie ausgewertet wird. Der Messstrahl (24) wird dabei durch eine Fokussieroptik (18) geleitet, durch die hindurch auch der Bearbeitungsstrahl (16) zum Bearbeitungsort (32) zur Bearbeitung des Werkstücks (17) geleitet wird.</p> |
申请公布号 |
DE102013225108(A1) |
申请公布日期 |
2015.06.11 |
申请号 |
DE201310225108 |
申请日期 |
2013.12.06 |
申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
DIETRICH, JENS;RENTERIA, ARTURO FLORES;MÜNZER, JAN;THOMAIDIS, DIMITRIOS |
分类号 |
B23K26/04;B23K26/382;G01B9/02;G01B11/00 |
主分类号 |
B23K26/04 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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