发明名称 |
隔离件之制造方法、其形成之隔离件、及包含其之电化学装置 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI488351 |
申请公布日期 |
2015.06.11 |
申请号 |
TW101149720 |
申请日期 |
2012.12.25 |
申请人 |
LG化学股份有限公司 |
发明人 |
河廷玟;李柱成;金阵宇;金锺勋;陈善美;柳宝炅 |
分类号 |
H01M2/14;H01M10/0525;C09J7/02;C09J11/04 |
主分类号 |
H01M2/14 |
代理机构 |
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代理人 |
叶璟宗 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;詹富闵 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;郑婷文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
主权项 |
一种隔离件的制备方法,包括:(S1)制备一多孔性平面基板,其具有复数个孔洞;(S2)于该多孔基板上涂布一涂层溶液,以形成一多孔性涂层,并乾燥该多孔性涂层;其中,该涂层溶液之制备系于一溶剂中溶解一黏着剂聚合物,以及于其中分散复数个无机颗粒;以及(S3)将一黏着剂溶液涂布至乾燥之该多孔性涂层之表面上,以形成一黏着层;其中,该黏着剂溶液之表面能系高于该多孔性涂层之表面能之至少10 mN/m,且该黏着剂溶液于该多孔性涂层之表面上之接触角系于80°或以上维持30秒。 |
地址 |
大韩民国 105-721 首尔特别市 永登浦汝矣大路 LG双子大楼 128 |