| 发明名称 | 用于等离子体处理腔室的静电夹盘元件及制造方法 | ||
| 摘要 | |||
| 申请公布号 | TWI488260 | 申请公布日期 | 2015.06.11 |
| 申请号 | TW101144499 | 申请日期 | 2012.11.28 |
| 申请人 | 中微半导体设备（上海）有限公司 | 发明人 | 贺 小明;倪图强 |
| 分类号 | H01L21/683 | 主分类号 | H01L21/683 |
| 代理机构 | 代理人 | 林志青 台北市信义区松隆路102号18楼之1 | |
| 主权项 | 一种用于等离子体处理腔室的静电夹盘元件，包括：一基体：设置于该基体之上的一绝缘层；设置于该绝缘层之上的一电极；以及，由Y2O3/Al2O3或者YF3/Al2O3的混合物组成的一增强型涂层，该增强型涂层覆盖了该静电夹盘元件，除了该基体的背面的部分，该增强型涂层的孔隙度为小于1%。 | ||
| 地址 | 中国 | ||