发明名称 微影装置及反射元件阵列
摘要
申请公布号 TWI487954 申请公布日期 2015.06.11
申请号 TW099120937 申请日期 2010.06.25
申请人 ASML荷兰公司 发明人 比伊斯 爱德温 乔汉;德 弗里斯 戈塞 查理斯
分类号 G02B5/08;G03F7/20 主分类号 G02B5/08
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种反射元件阵列,该等反射元件中之至少一者安装于一座架上,该座架包含:至少部分地位于一套筒(sleeve)内之一杆体,其中该杆体之一第一末端固定至该套筒之一第一末端,且该杆体之一第二末端系可移动的,该套筒包括一第一回弹(resiliently)可挠性部分,该第一回弹可挠性部分经组态以弯曲,以便允许发生该杆体之该第二末端之移动,其中该反射元件安装于该套筒之该第一末端处,使得该套筒之弯曲导致该反射元件之旋转;及一致动器,经组态以直接推压该杆体,以致使该杆体之该第二末端之移动及该反射元件之旋转。
地址 荷兰