| 发明名称 | 电极及其制作方法、阵列基板及其制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种电极及其制作方法、阵列基板及其制作方法，电极的制作方法包括：在金属电极层上形成ZnON材料层；对所形成的ZnON材料层进行刻蚀形成微透镜结构层；在所述微透镜结构层上形成透明电极层。本发明中，由于采用ZnON材料作为用于形成微透镜结构层的材料，能够在通过刻蚀的方式形成微透镜结构时，使用碱性或者酸性较弱的溶液，从而能够阻止金属电极层被腐蚀。 | ||
| 申请公布号 | CN104701350A | 申请公布日期 | 2015.06.10 |
| 申请号 | CN201510094993.8 | 申请日期 | 2015.03.03 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 王东方;闫梁臣;上官荣刚 |
| 分类号 | H01L27/32(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 李相雨 |
| 主权项 | 一种电极，其特征在于，包括：金属电极层、形成在所述金属电极层上的微透镜结构层、形成在所述微透镜结构层上的透明电极层；其中，所述微透镜结构层采用ZnON材料制作。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||