发明名称 划片槽阻隔分离型保护层半导体结构
摘要 本实用新型公开了一种划片槽阻隔分离型保护层半导体结构,包括焊锡球,所述焊锡球下设有再布线金属层,所述再布线金属层下设有第一钝化层,所述第一钝化层下设有圆片衬底,所述第一钝化层外围的圆片衬底上设有圆片线路层,所述圆片线路层上设有至少一第一正性聚酰亚胺层,所述第一正性聚酰亚胺层位于所述圆片线路层与所述再布线金属层之间,每个第一正性聚酰亚胺层对应一第二正性聚酰亚胺层,所述第二正性聚酰亚胺层设置在所述圆片线路层上,所述第一正性聚酰亚胺层与所述第二正性聚酰亚胺层之间设有第一开口。本实用新型通过设置第一开口,降低材料间由于膨胀系数不一致而引起的应力,有效提高工艺稳定性并降低由此导致的设备运行成本。
申请公布号 CN204391083U 申请公布日期 2015.06.10
申请号 CN201420860952.6 申请日期 2014.12.30
申请人 南通富士通微电子股份有限公司 发明人 陈文军;施建根;冯玉祥
分类号 H01L23/00(2006.01)I 主分类号 H01L23/00(2006.01)I
代理机构 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 代理人 孟阿妮;郭栋梁
主权项 一种划片槽阻隔分离型保护层半导体结构,包括焊锡球,所述焊锡球下设有再布线金属层,所述再布线金属层下设有第一钝化层,所述第一钝化层下设有圆片衬底,所述第一钝化层外围的圆片衬底上设有圆片线路层,其特征在于,所述圆片线路层上设有至少一第一正性聚酰亚胺层,所述第一正性聚酰亚胺层位于所述圆片线路层与所述再布线金属层之间,每个第一正性聚酰亚胺层对应一第二正性聚酰亚胺层,所述第二正性聚酰亚胺层设置在所述圆片线路层上,所述第一正性聚酰亚胺层与所述第二正性聚酰亚胺层之间设有第一开口。
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