发明名称 | 用于制造几何相位全息图的直写式光刻法 | ||
摘要 | 直写光刻装置包括配置成改变来自光源的光的极化定向角的极化选择器级、配置成将来自光源的光聚焦到在其焦平面处的斑点中的聚焦元件、以及配置成在至少两个维度中沿着布置成接近焦平面的极化敏感记录介质的表面扫描斑点使得相邻的扫描实质上重叠的扫描级。极化选择器级和扫描级被配置成彼此独立地进行操作。也讨论了相关的制造方法和由此制造的光学元件。 | ||
申请公布号 | CN104704406A | 申请公布日期 | 2015.06.10 |
申请号 | CN201380053614.X | 申请日期 | 2013.10.15 |
申请人 | 北卡罗莱纳州立大学 | 发明人 | M.J.埃斯库蒂;M.N.米斯基维奇;金知焕 |
分类号 | G02B5/32(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/32(2006.01)I |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 王岳;张懿 |
主权项 | 一种装置,包括:极化选择器级,其配置成改变在多个极化当中的来自光源的光的极化;聚焦元件,其配置成将来自所述光源的所述光聚焦到在其焦平面处的斑点中;以及扫描级,其配置成在至少两个维度中沿着布置成接近所述焦平面的极化敏感记录介质的表面扫描所述斑点,使得所述斑点的相邻扫描在空间上重叠,其中所述极化选择器级和所述扫描级分别配置成独立地改变所述极化和扫描所述斑点。 | ||
地址 | 美国北卡罗莱纳州罗利 |