发明名称 |
一种闪耀凹面光栅制作方法 |
摘要 |
本发明涉及一种新的闪耀凹面光栅制作方法,它可以解决现有闪耀凹面光栅复制方法误差大的问题。该方法为:通过复制工艺复制凹面闪耀光栅,复制完毕,保温、降温,然后分别将两块光栅以不同的拔取方式分离,最后将复制分离后的凹面光栅毛坯进行拼接,得到所需要的凹面闪耀光栅。 |
申请公布号 |
CN103499851B |
申请公布日期 |
2015.06.10 |
申请号 |
CN201310462037.1 |
申请日期 |
2013.09.29 |
申请人 |
清华大学深圳研究生院 |
发明人 |
周倩;倪凯;田瑞;李阳;许明飞;张锦超;逄锦超;董昊 |
分类号 |
G02B5/18(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/18(2006.01)I |
代理机构 |
深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 |
代理人 |
江耀纯 |
主权项 |
一种闪耀凹面光栅制作方法,其特征是包括如下步骤:A、制备凸面闪耀母光栅;B、准备凹面光栅复制基底并准备分割片;C、复制凹面光栅,复制时在凸面闪耀母光栅的中间直立地放置分割片,以便在凸面闪耀母光栅上复制出相互分立的两个光栅;D、分离凹面闪耀光栅:将分立的两个光栅分别从两个不同的方向拔取,从而将其从凸面闪耀母光栅上分离出来;E、拼接凹面光栅:将上述分离后的光栅进行拼接。 |
地址 |
518055 广东省深圳市南山区西丽大学城清华校区 |